工业高纯水设备

水质符合美国ASTM标准，电子部**纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，10MΩ*cm ，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm五级标准） 
    随着国内光电行业发展,我公司为光电行业，生产企业设计并安装的生产工艺用**纯水设备.如单晶硅、多晶硅料的清洗用水，切片厂家的清洗工艺用水、电池生产厂家的清洗工艺用**纯水设备等已取得较好的成效。并已形成良好的口碑。 
在光电行业纯水制备中，前两年一般采用“全膜法”制水工艺的比较多，也就是预处理也采用盘式过滤器+超滤的滤膜组件，达到后级反渗透装置的进水要求，反渗透用二级工艺较多，再使用电除盐混床（EDI）装置，出水指标可以达到≥16 MΩ?cm（25℃）以上，中间的关键手段都是水处理的滤膜技术，特别是EDI技术得到行业的普遍认同。
    但是，由于项目中大部分的源水问题，预处理采用盘式过滤器长期运行不是很稳定，因此近期的项目多采用传统的多介质过滤器过滤器来作为反渗透的预处理。 
在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO＋EDI水处理工艺，确保处理后的**纯水水质符合要求，水利用率高，运行可靠，经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。 
    工艺流程：
    1、预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)
    2、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺) 
    3、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-*二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) (新工艺) 
    4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺) 
    5、处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)